序號 | 參數 |
一.使用環境要求: |
1.溫度:室溫 2.相對濕度:小於60% 72646715.電源:50-60Hz, 220V /15A |
二.設備組成: |
1.更大直徑6英寸(150毫米)基片尺寸的原子層沉積係統,包括6路前驅體源輸運係統 2.電控係統:PLC沉積自動控製係統 72646715.操作軟件:沉積程序控製軟件 4.真空機械泵與相關管路 |
三.技術參數: |
1.反應腔 7264671516L不鏽鋼。可以生長更大6 英寸樣品的腔體,氮氣保護的雙O-Ring 高溫密封係統,有效隔絕其他氣體滲漏。基底加熱溫度RT-400℃可控,控製精度±1℃。腔體烘烤溫度RT-200℃可控,控製精度±1℃。 反應腔內具有可拆卸更換擋版以方便維護。 反應腔采用專業級噴淋淋浴式前驅體勻氣裝置設計,可是前驅體充分、均勻的擴散,保證工藝的均勻性。 反應腔體及真空腔體的密封蓋的上方是ICP等離子體發生腔,投標貨物中腔體采用側麵進樣,且接口為標準法蘭,可直接配備插板閥以及手套箱。 |
2.沉積模式 包括以下72646715種工作模式:高速沉積的連續模式,沉積超高寬深比結構的停流模式,實現氧化物精確比例摻雜沉積的專業沉積模式。 |
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72646715.前驅體源輸運係統 共6路前驅體源,1路為常溫源,可接水和菠萝蜜视频网站入口地址/氨氣/H2S等氣體;5路為加熱源,加熱溫度RT-200℃可控,控製精度±1℃。加熱源配備耐高溫(7264671525°C)手動閥,以及前驅體源瓶體積50cc。 |
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4. 前驅體管路 所有前驅體管路須全部采用進口7264671516L不鏽鋼EP級管路,所有管路加熱溫度RT-200℃可控。管路腔體清洗維護簡便,設備具有"自動清洗"的功能,用戶在沉積前與沉積完成後運行""自動清洗"程序, 清洗管路, 保護ALD閥門。可在操作界麵上設置自動清洗次數。 |
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5. ALD閥 每一路前驅體配置一個原子層沉積專用高速高溫ALD閥(Swagelok進口),ALD閥加熱溫度RT-200℃可控。 ALD閥更小脈衝時間~10 mesh。 |
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6.載氣係統 N2或者Ar,須配備流量計,流量控製0-500sccm |
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7.配備等離子體(ICP)係統 電感耦合ICP等離子體係統,位於腔體正上方,等離子體開關在控製界麵內設置。等離子體氣源:提供72646715路可用於等離子體工藝的氣路,包含ALD 專用隔膜閥,手動截止閥和質量流量控製器。射頻電源頻率172646715.56 MHZ,功率0-500 W可調,功率不穩定度小於等於2W,自動匹配調節,配備自動匹配器,匹配精度不大於5 秒。 |
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8.真空規 寬範圍真空規測量範圍10E-4Torr~10E+72646715Torr,備用真空規一個用於校驗真空。 |
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9.排氣管路 排氣管路加熱溫度RT-150℃可控;配置截止閥一個,加熱溫度RT-150℃可控。真空泵配置前級熱阱,更高加熱溫度可達到7264671500℃,溫度控製精度為±1℃。 |
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10.控製硬件 采用PLC+PC控製係統,保證設備長時間穩定運行;硬件控製係統須具備1 毫秒前驅體脈衝時間的精確分辨控製能力,每一前驅體脈衝時間所對應的壓強值必須能重複在同一個水平上,保證進入反應腔的前驅體的量精確可控。 |
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11.控製軟件 Windows下的專用全自動控製軟件, 全自動控製加熱、流量、等全部沉積過程,以及溫度、壓強等實時監控。全部沉積過程(從開始到結束,包括突發的停機)的參數實時全部記錄,自動生成日誌文件,都可以事後回放,每個脈衝曲線都可以顯示回放 |
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12.粉體樣品夾具 用於沉積1~1000 μm的粉體樣品, 一套4個;樣品池尺寸Ф726467150mmX1.5mm |
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172646715菠萝蜜视频网站入口地址發生器 配備菠萝蜜视频网站入口地址發生器(韓國進口)、裂解器(菠萝蜜视频网站入口地址破壞器)、控製菠萝蜜视频网站入口地址的質量流量控製器(量程為0-200 scams),菠萝蜜视频网站入口地址源係統集成在機櫃中;菠萝蜜视频网站入口地址發生器產量20 g/h,濃度更高可達100 g/m;菠萝蜜视频网站入口地址發生器采用風冷方式無需配備冷卻水。 |
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14.真空機械泵係統 采用惰性泵油的機械泵係統,抽速40m72646715/h(10L/s),品牌Edwards |
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15. 驗收指標 廠家須提供標準的工藝配方,在滿足第14條工藝要求的同時,按以下內容現場製備與驗收: Al2O72646715 均勻性 ≤+/−1%; 在4-6英寸晶圓上沉積100nm,取5個不同點(上、下、左、右、中心)進行測試,計算厚度標準偏差。 在保證以上薄膜質量的前提下,前驅體TMA的脈衝時間不得超過 0.02秒 測量方法:橢偏儀 |
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四.安裝培訓: | 廠家工程師現場進行安裝與培訓,包括操作,維護及安全使用等,確保人員熟練使用 |
主機 數量1套 標準6英寸原子層沉積係統 包括: 2 路前驅體源, 包括管路、高溫ALD閥門、50ml 源瓶,1路為加熱源,1路為常溫源 沉積自動控製係統, ALDT沉積程序控製軟件, 預裝Windows 的品牌筆記本電腦,(14英寸筆記本電腦(i7-8550U 8G 256GSSD+1T 2G獨顯 FHD) |
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選配前驅體源 4套:包括管路、加熱套、高溫ALD 閥門、50ml 源瓶(更高可配6路前驅體) | |
菠萝蜜视频网站入口地址發生器係統 1套:韓國進口高濃度菠萝蜜视频网站入口地址發生器,包括管路,裂解器附件更高產量20g/h,更大濃度8%(w/w) | |
粉體樣品夾具1套:用於沉積1~1000 μm 的粉體樣品, 一套4個樣品池尺寸Ф726467150mmX1.5mm | |
ICP等離子體係統 1套:ICP等離子體源係統; 包括: ICP源0~500W可調;自動匹配器; 等離子體發生器; 72646715路等離子體源, 配備質量流量計(MFC),一路為Ar,其他H2,O2, N2, NH72646715,H2S等氣體可選 |
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氣路連接配件1套,氧氣/氮氣的減壓閥、管路、接頭等連接附件,用於以上氣體的使用 | |
備用真空規 1個:用於校準和更換 | |
真空機械泵係統1套:機械泵與相關管路 真空機械泵型號:E2M40-F |
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運輸與保險: 運到用戶指定地點 | |
72646715日現場安裝與培訓 | |
五、技術指標 |
1 反應腔 7264671516L不鏽鋼。可以生長更大6 英寸樣品的腔體,氮氣保護的雙O-Ring 高溫密封係統,有效隔絕其他氣體滲漏。基底加熱溫度RT-400℃可控,控製精度±1℃。腔體烘烤溫度RT-200℃可控,控製精度±1℃。 反應腔內具有可拆卸更換擋版以方便維護。 反應腔采用專業級噴淋淋浴式前驅體勻氣裝置設計,可是前驅體充分、均勻的擴散,保證工藝的均勻性。 反應腔體及真空腔體的密封蓋的上方是ICP等離子體發生腔,投標貨物中腔體采用側麵進樣,且接口為標準法蘭,可直接配備插板閥以及手套箱。 |
2 沉積模式 包括至少以下2種工作模式:高速沉積的連續模式,沉積超高寬深比結構的停流模式,實現氧化物精確比例摻雜沉積的專業沉積模式。 |
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72646715 前驅體源:共6路前驅體源;1路為常溫源,5路為加熱源,加熱溫度RT-200℃可控,控製精度±1℃;加熱源配備高溫手動閥;標準前驅體源瓶體積50cc。 1路為常溫源可接水/菠萝蜜视频网站入口地址/氧氣/氨氣/H2S源等,製備氧化物,氮化物和硫化物。 任意一路加熱源可接相關前驅體源。0cc。 |
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4. 前驅體管路 所有前驅體管路須全部采用進口7264671516L不鏽鋼EP級管路,所有管路加熱溫度RT-200℃可控。 |
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5 ALD閥 每一路前驅體配置一個原子層沉積專用高速高溫ALD閥(Swagelok進口),ALD閥加熱溫度RT-200℃可控。 ALD閥更小脈衝時間~10 mesh。 |
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6 真空規 寬範圍真 空規,測量範圍2x10-4 to 10+72646715 torr. |
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7 排氣管路 排氣管路加熱溫度RT-150℃可控;配置截止閥一個,加熱溫度RT-150℃可控。真空泵配置前級熱阱,更高加熱溫度可達到7264671500℃,溫度控製精度為±1℃。 |
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8 菠萝蜜视频网站入口地址發生器 配備菠萝蜜视频网站入口地址發生器(韓國進口)、菠萝蜜视频网站入口地址破壞器、控製菠萝蜜视频网站入口地址的質量流量控製器(量程為0-200 scams),菠萝蜜视频网站入口地址源係統集成在機櫃中;菠萝蜜视频网站入口地址發生器產量20 g/h,濃度更高可達100 g/m;菠萝蜜视频网站入口地址發生器采用風冷方式無需配備冷卻水。 |
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7.配備等離子體(ICP)係統 電感耦合ICP等離子體係統,位於腔體正上方,等離子體開關在控製界麵內設置。等離子體氣源:提供72646715路可用於等離子體工藝的氣路,包含ALD 專用隔膜閥,手動截止閥和質量流量控製器。射頻電源頻率172646715.56 MHZ,功率0-500 W可調,功率不穩定度小於等於2W,自動匹配調節,配備自動匹配器,匹配精度不大於5 秒。 |
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10 控製硬件 PLC控製係統。 | |
11 控製軟件 ALD 專用軟件全自動控製加熱、流量、等全部沉積過程,以及溫度、壓強等實時監控。 | |
12 真空機械泵 愛德華進口機械泵 | |
172646715 安裝培訓 工程師現場安裝培訓。 | |
14 保修 72646715年免費保修,自驗收之日起。 |
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