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    原子層沉積係統含菠萝蜜视频网站入口地址發生器參數介紹
    來源：www.sldhy.com 發布時間：2023-05-17 瀏覽次數：
     原子層沉積係統含菠萝蜜视频网站入口地址發生器參數介紹
    原子層沉積 （ Atomic layer deposition, ALD ）是通過將氣相前驅體脈衝交替的通入反應器，化學吸附在沉積襯底上 並反應 形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質以單原子 膜形式 逐層的鍍在襯底表麵的方法。因此，它是一種真正的“納米”技術，以精確控製方式實現納米級的超薄薄膜沉積。由於 ALD 利用的是飽和化學吸附的特性，因此可以確保對大麵積、多空、管狀、粉末或其他複雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

    序號 參數
    一．使用環境要求： 1．溫度：室溫
    2．相對濕度：小於60%
    3．電源：50-60Hz, 220V /15A
    二．設備組成： 1．更大直徑6英寸（150毫米）基片尺寸的原子層沉積係統，包括6路前驅體源輸運係統
    2．電控係統：PLC沉積自動控製係統            
    3．操作軟件：沉積程序控製軟件                  
    4．真空機械泵與相關管路
    三．技術參數： 1．反應腔
    316L不鏽鋼。可以生長更大6 英寸樣品的腔體，氮氣保護的雙O-Ring 高溫密封係統，有效隔絕其他氣體滲漏。基底加熱溫度RT-400℃可控，控製精度±1℃。腔體烘烤溫度RT-200℃可控，控製精度±1℃。
    反應腔內具有可拆卸更換擋版以方便維護。
    反應腔采用專業級噴淋淋浴式前驅體勻氣裝置設計，可是前驅體充分、均勻的擴散，保證工藝的均勻性。
    反應腔體及真空腔體的密封蓋的上方是ICP等離子體發生腔，投標貨物中腔體采用側麵進樣，且接口為標準法蘭，可直接配備插板閥以及手套箱。
      2．沉積模式
    包括以下3種工作模式：高速沉積的連續模式，沉積超高寬深比結構的停流模式，實現氧化物精確比例摻雜沉積的專業沉積模式。
      3．前驅體源輸運係統
    共6路前驅體源，1路為常溫源，可接水和菠萝蜜视频网站入口地址/氨氣/H2S等氣體；5路為加熱源，加熱溫度RT-200℃可控，控製精度±1℃。加熱源配備耐高溫(325°C)手動閥，以及前驅體源瓶體積50cc。
      4．  前驅體管路
    所有前驅體管路須全部采用進口316L不鏽鋼EP級管路，所有管路加熱溫度RT-200℃可控。管路腔體清洗維護簡便，設備具有"自動清洗"的功能,用戶在沉積前與沉積完成後運行""自動清洗"程序, 清洗管路, 保護ALD閥門。可在操作界麵上設置自動清洗次數。
      5. ALD閥
    每一路前驅體配置一個原子層沉積專用高速高溫ALD閥(Swagelok進口)，ALD閥加熱溫度RT-200℃可控。 ALD閥更小脈衝時間~10 mesh。
      6．載氣係統
    N2或者Ar，須配備流量計，流量控製0-500sccm
      7．配備等離子體(ICP)係統
    電感耦合ICP等離子體係統，位於腔體正上方，等離子體開關在控製界麵內設置。等離子體氣源：提供3路可用於等離子體工藝的氣路，包含ALD 專用隔膜閥，手動截止閥和質量流量控製器。射頻電源頻率13.56 MHZ，功率0-500 W可調，功率不穩定度小於等於2W，自動匹配調節，配備自動匹配器，匹配精度不大於5 秒。
      8．真空規
    寬範圍真空規測量範圍10E-4Torr~10E+3Torr，備用真空規一個用於校驗真空。
      9．排氣管路
    排氣管路加熱溫度RT-150℃可控；配置截止閥一個，加熱溫度RT-150℃可控。真空泵配置前級熱阱，更高加熱溫度可達到300℃，溫度控製精度為±1℃。
      10．控製硬件
    采用PLC+PC控製係統，保證設備長時間穩定運行；硬件控製係統須具備1 毫秒前驅體脈衝時間的精確分辨控製能力，每一前驅體脈衝時間所對應的壓強值必須能重複在同一個水平上，保證進入反應腔的前驅體的量精確可控。
      11．控製軟件
    Windows下的專用全自動控製軟件, 全自動控製加熱、流量、等全部沉積過程，以及溫度、壓強等實時監控。全部沉積過程(從開始到結束，包括突發的停機)的參數實時全部記錄，自動生成日誌文件，都可以事後回放，每個脈衝曲線都可以顯示回放
      12．粉體樣品夾具
    用於沉積1~1000 μm的粉體樣品, 一套4個；樣品池尺寸Ф30mmX1.5mm
      13菠萝蜜视频网站入口地址發生器
    配備菠萝蜜视频网站入口地址發生器(韓國進口)、裂解器（菠萝蜜视频网站入口地址破壞器）、控製菠萝蜜视频网站入口地址的質量流量控製器(量程為0-200 scams)，菠萝蜜视频网站入口地址源係統集成在機櫃中；菠萝蜜视频网站入口地址發生器產量20 g/h，濃度更高可達100 g/m；菠萝蜜视频网站入口地址發生器采用風冷方式無需配備冷卻水。
      14．真空機械泵係統
    采用惰性泵油的機械泵係統，抽速40m3/h(10L/s)，品牌Edwards
      15. 驗收指標
    廠家須提供標準的工藝配方，在滿足第14條工藝要求的同時，按以下內容現場製備與驗收：
    Al2O3 均勻性 ≤+/−1%；
    在4-6英寸晶圓上沉積100nm，取5個不同點（上、下、左、右、中心）進行測試，計算厚度標準偏差。
    在保證以上薄膜質量的前提下，前驅體TMA的脈衝時間不得超過 0.02秒
    測量方法：橢偏儀
    四．安裝培訓： 廠家工程師現場進行安裝與培訓，包括操作，維護及安全使用等，確保人員熟練使用
      主機       數量1套        標準6英寸原子層沉積係統
    包括：
    2 路前驅體源, 包括管路、高溫ALD閥門、50ml 源瓶，1路為加熱源，1路為常溫源
    沉積自動控製係統,
    ALDT沉積程序控製軟件,
    預裝Windows 的品牌筆記本電腦,（14英寸筆記本電腦（i7-8550U 8G 256GSSD+1T 2G獨顯 FHD）
      選配前驅體源 4套：包括管路、加熱套、高溫ALD 閥門、50ml 源瓶（更高可配6路前驅體）
      菠萝蜜视频网站入口地址發生器係統 1套：韓國進口高濃度菠萝蜜视频网站入口地址發生器，包括管路，裂解器附件更高產量20g/h，更大濃度8%(w/w)
      粉體樣品夾具1套：用於沉積1~1000 μm 的粉體樣品, 一套4個樣品池尺寸Ф30mmX1.5mm
      ICP等離子體係統 1套：ICP等離子體源係統；
    包括： ICP源0~500W可調；自動匹配器； 等離子體發生器；
    3路等離子體源, 配備質量流量計(MFC)，一路為Ar，其他H2,O2, N2, NH3,H2S等氣體可選
      氣路連接配件1套，氧氣/氮氣的減壓閥、管路、接頭等連接附件，用於以上氣體的使用
      備用真空規 1個：用於校準和更換
      真空機械泵係統1套：機械泵與相關管路
    真空機械泵型號：E2M40-F
      運輸與保險: 運到用戶指定地點
      3日現場安裝與培訓
    五、技術指標 1 反應腔
    316L不鏽鋼。可以生長更大6 英寸樣品的腔體，氮氣保護的雙O-Ring 高溫密封係統，有效隔絕其他氣體滲漏。基底加熱溫度RT-400℃可控，控製精度±1℃。腔體烘烤溫度RT-200℃可控，控製精度±1℃。
    反應腔內具有可拆卸更換擋版以方便維護。
    反應腔采用專業級噴淋淋浴式前驅體勻氣裝置設計，可是前驅體充分、均勻的擴散，保證工藝的均勻性。
    反應腔體及真空腔體的密封蓋的上方是ICP等離子體發生腔，投標貨物中腔體采用側麵進樣，且接口為標準法蘭，可直接配備插板閥以及手套箱。
      2  沉積模式
    包括至少以下2種工作模式：高速沉積的連續模式，沉積超高寬深比結構的停流模式，實現氧化物精確比例摻雜沉積的專業沉積模式。
      3     前驅體源：共6路前驅體源；1路為常溫源，5路為加熱源，加熱溫度RT-200℃可控，控製精度±1℃；加熱源配備高溫手動閥；標準前驅體源瓶體積50cc。
    1路為常溫源可接水/菠萝蜜视频网站入口地址/氧氣/氨氣/H2S源等，製備氧化物，氮化物和硫化物。 任意一路加熱源可接相關前驅體源。0cc。
      4．  前驅體管路
    所有前驅體管路須全部采用進口316L不鏽鋼EP級管路，所有管路加熱溫度RT-200℃可控。
      5 ALD閥
    每一路前驅體配置一個原子層沉積專用高速高溫ALD閥(Swagelok進口)，ALD閥加熱溫度RT-200℃可控。 ALD閥更小脈衝時間~10 mesh。
      6     真空規    寬範圍真
    空規，測量範圍2x10-4 to 10+3 torr.
      7 排氣管路
    排氣管路加熱溫度RT-150℃可控；配置截止閥一個，加熱溫度RT-150℃可控。真空泵配置前級熱阱，更高加熱溫度可達到300℃，溫度控製精度為±1℃。
      8 菠萝蜜视频网站入口地址發生器
    配備菠萝蜜视频网站入口地址發生器(韓國進口)、菠萝蜜视频网站入口地址破壞器、控製菠萝蜜视频网站入口地址的質量流量控製器(量程為0-200 scams)，菠萝蜜视频网站入口地址源係統集成在機櫃中；菠萝蜜视频网站入口地址發生器產量20 g/h，濃度更高可達100 g/m；菠萝蜜视频网站入口地址發生器采用風冷方式無需配備冷卻水。
      7．配備等離子體(ICP)係統
    電感耦合ICP等離子體係統，位於腔體正上方，等離子體開關在控製界麵內設置。等離子體氣源：提供3路可用於等離子體工藝的氣路，包含ALD 專用隔膜閥，手動截止閥和質量流量控製器。射頻電源頻率13.56 MHZ，功率0-500 W可調，功率不穩定度小於等於2W，自動匹配調節，配備自動匹配器，匹配精度不大於5 秒。
      10    控製硬件       PLC控製係統。
      11    控製軟件       ALD 專用軟件全自動控製加熱、流量、等全部沉積過程，以及溫度、壓強等實時監控。
      12    真空機械泵    愛德華進口機械泵
      13    安裝培訓       工程師現場安裝培訓。
      14    保修       3年免費保修，自驗收之日起。